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NH3,PH3熱分解對Ⅲ-Ⅴ族半導體MOVPE外延生長的影響

李長榮 盧琳 王福明 張維敬

李長榮, 盧琳, 王福明, 張維敬. NH3,PH3熱分解對Ⅲ-Ⅴ族半導體MOVPE外延生長的影響[J]. 工程科學學報, 2002, 24(2): 165-168. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2002.02.018
引用本文: 李長榮, 盧琳, 王福明, 張維敬. NH3,PH3熱分解對Ⅲ-Ⅴ族半導體MOVPE外延生長的影響[J]. 工程科學學報, 2002, 24(2): 165-168. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2002.02.018
LI Zhangrong, LU Lin, WANG Fuming, ZHANG Weijing. Pyrolysis Effect of NH3 and PH3 on the Composition Spaces for MOVPE Growth of III-V Semiconductors[J]. Chinese Journal of Engineering, 2002, 24(2): 165-168. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2002.02.018
Citation: LI Zhangrong, LU Lin, WANG Fuming, ZHANG Weijing. Pyrolysis Effect of NH3 and PH3 on the Composition Spaces for MOVPE Growth of III-V Semiconductors[J]. Chinese Journal of Engineering, 2002, 24(2): 165-168. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2002.02.018

NH3,PH3熱分解對Ⅲ-Ⅴ族半導體MOVPE外延生長的影響

doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2002.02.018
基金項目: 

國家“863”計劃項目資助課題(No.715-010-0032)

詳細信息
    作者簡介:

    李長榮 女,40歲,教授

  • 中圖分類號: TN304.2

Pyrolysis Effect of NH3 and PH3 on the Composition Spaces for MOVPE Growth of III-V Semiconductors

  • 摘要: 以GaN和(Ga1-xInx)P半導體的金屬有機物氣相外延生長(MOVPE)為例分析了V族氣源物質NH3和PH3熱分解對半導體化合物外延生長成分空間的影響.根據外延生長過程中NH3和PH3實際分解狀況,建立了氣源物質不同分解狀態下的熱力學模型,進而應用Thermo-calc軟件計算出與之對應的成分空間.計算結果與實驗數據的對比表明:GaN和(Ga1-xInx)P半導體的MOVPE過程的熱力學分析必須根據V族氣源物質NH3和PH3的實際熱分解狀況,進行完全平衡或限定平衡條件下的計算和預測,完全的熱力學平衡分析僅適用于特定的溫度區段或經特殊氣源預處理的工藝過程.

     

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出版歷程
  • 收稿日期:  2001-12-11
  • 網絡出版日期:  2021-08-21

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