CN<sub><i>x</i></sub>薄膜的制備和表征

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CN_x薄膜的制備和表征

程德剛, 呂反修, 楊蓮隱, 宋鉑, 佟玉梅

文章導航 > 工程科學學報 > 1997 > 19(1): 100-104

程德剛, 呂反修, 楊蓮隱, 宋鉑, 佟玉梅. CNx薄膜的制備和表征[J]. 工程科學學報, 1997, 19(1): 100-104. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.01.020

引用本文:

程德剛, 呂反修, 楊蓮隱, 宋鉑, 佟玉梅. CN_x薄膜的制備和表征[J]. 工程科學學報, 1997, 19(1): 100-104. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.01.020

Cheng Degang, Lu Fanxiu, Yang Lianyin, Song Bo, Tong Yumei. Preparation and Characterization of Magnetron Sputtered CNx Films[J]. Chinese Journal of Engineering, 1997, 19(1): 100-104. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.01.020

Citation:

Cheng Degang, Lu Fanxiu, Yang Lianyin, Song Bo, Tong Yumei. Preparation and Characterization of Magnetron Sputtered CN_x Films[J]. Chinese Journal of Engineering, 1997, 19(1): 100-104. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.01.020

程德剛, 呂反修, 楊蓮隱, 宋鉑, 佟玉梅. CNx薄膜的制備和表征[J]. 工程科學學報, 1997, 19(1): 100-104. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.01.020

引用本文:

程德剛, 呂反修, 楊蓮隱, 宋鉑, 佟玉梅. CN_x薄膜的制備和表征[J]. 工程科學學報, 1997, 19(1): 100-104. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.01.020

Cheng Degang, Lu Fanxiu, Yang Lianyin, Song Bo, Tong Yumei. Preparation and Characterization of Magnetron Sputtered CNx Films[J]. Chinese Journal of Engineering, 1997, 19(1): 100-104. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.01.020

Citation:

Cheng Degang, Lu Fanxiu, Yang Lianyin, Song Bo, Tong Yumei. Preparation and Characterization of Magnetron Sputtered CN_x Films[J]. Chinese Journal of Engineering, 1997, 19(1): 100-104. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.01.020

CN_x薄膜的制備和表征

doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.01.020

北京科技大學材料系, 北京 100083

基金項目:

國家863高科技項目

作者簡介:
程德剛男 32歲博士后

中圖分類號: TQ164
計量
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- 被引次數: 0
出版歷程
- 收稿日期: 1996-12-02
- 網絡出版日期: 2021-08-27

Preparation and Characterization of Magnetron Sputtered CN_x Films

Material Science and Engineering School, UST Beijing, Beijing 100083, China

摘要: 采用在純氮氣氛中磁控濺射高純石墨靶的方法成功地制備了碳氮薄膜.研究表明,碳氮膜的硬度不僅與薄膜中的氮含量有關,更重要的是與碳氮原子之間的結合狀態有關.C≡N鍵有利于薄膜硬度的提高.高濺射功率和高偏壓能促進碳氮叁鍵的形成,從而提高薄膜硬度.
- 磁控濺射 /
- 碳氮薄膜 /
- 硬度
Abstract: CN_x films have been prepared by DC magnetron sputtering of graphite in pure nitrogen atmosphere. N/C ratio is between 0.21 and 0.42, strongly correlating with deposition parameters. The hardness and modulus are related not only to the N/C ratio,but also to the formation and the amount of C≡N triple bonds in the CN_x films. High bias voltage and high sputtering power are beneficial to the increase of C≡N bands and so are helpful to increase the hardness and bulk modulus.
- magnetron sputtering /
- carbon nitride film /
- hardness

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