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鋁陽極氧化膜二次陽極電解沉積MoS2

劉海平 徐源 張文奇

劉海平, 徐源, 張文奇. 鋁陽極氧化膜二次陽極電解沉積MoS2[J]. 工程科學學報, 1991, 13(3): 273-280. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1991.03.031
引用本文: 劉海平, 徐源, 張文奇. 鋁陽極氧化膜二次陽極電解沉積MoS2[J]. 工程科學學報, 1991, 13(3): 273-280. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1991.03.031
Liu Haiping, Xu Yuan, Zhang Wenqi. Electrodepositied MoS2 in the Pores of Anodic Films on Aluminium[J]. Chinese Journal of Engineering, 1991, 13(3): 273-280. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1991.03.031
Citation: Liu Haiping, Xu Yuan, Zhang Wenqi. Electrodepositied MoS2 in the Pores of Anodic Films on Aluminium[J]. Chinese Journal of Engineering, 1991, 13(3): 273-280. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1991.03.031

鋁陽極氧化膜二次陽極電解沉積MoS2

doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1991.03.031
基金項目: 

國家自然科學基金資助項目

Electrodepositied MoS2 in the Pores of Anodic Films on Aluminium

  • 摘要: 觀察了實驗條件對恒電流密度下二次陽極處理電解沉積MoS2對應的電壓時間關系曲線和膜顏色的影響。電子探針分析表明,沉積的固體潤滑劑在整個孔的深度范圍存在,但接近孔口的膜外表面下含量較高。透射電鏡觀察發現二次陽極處理過程實質上為二次陽極氧化過程,膜的阻擋層增厚,其厚度與電壓的比值在1.0~1.4nm/V范圍。原多孔膜底部未發生對應高電壓的大孔的起源和發展。沉積MoS2的工藝使膜的硬度有所下降。膜的摩擦系數降低,耐磨性提高。

     

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出版歷程
  • 收稿日期:  1989-12-24
  • 網絡出版日期:  2021-10-26

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