摘要:
利用磁控濺射方法在單晶硅基片上制備出不同Al含量AlCN非晶薄膜,隨后分別在700℃和1000℃進行真空退火熱處理.使用X射線衍射儀和高分辨透射電鏡研究了沉積態和退火態薄膜的組織和微觀結構,用納米壓痕儀測試硬度和彈性模量.結果表明,退火態薄膜組織和微觀結構強烈依賴于薄膜的Al含量.經1000℃退火后,低Al含量AlCN薄膜沒有出現結晶現象,但形成了分層;高Al含量AlCN薄膜中,退火促使AlN納米晶的生成,使薄膜形成了非晶包裹納米晶的復合結構,隨著距表面深度的增加,形成的納米晶密度和尺寸均有減小的趨勢.隨著退火溫度的升高,AlCN薄膜的硬度和彈性模量均降低;而對于高Al含量AlCN薄膜,由于形成了納米復合結構,硬度和彈性模量下降幅度減少.